证券代码：688138 证券简称：清溢光电 公告编号：2026-024

深圳清溢光电股份有限公司 关于高端半导体掩膜版研发进展的自愿性披露公告

|本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述 或者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。

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深圳清溢光电股份有限公司（以下简称“公司”）始终专注于掩膜版领域的 技术创新与产品研发，致力于推动高端掩膜版产品的国产替代进程。近期，公司 在半导体掩膜版领域取得重要进展，现将相关情况披露如下：

一、研发进展情况 截至本公告披露日，公司 55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密 协议并确认产品规格书，已收到客户采购订单（PO），产品现已交货，进入客户 上线认证阶段。PSM 相移掩膜版主要用于半导体芯片制造中对图形精度要求较高 的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、部分特色工艺及功率器件等高精密图形场景， 可提升光刻分辨率、改善图形对比度，拓宽光刻工艺窗口，是公司半导体掩膜版 业务向更高工艺节点突破的重要产品。 二、对公司的影响及风险提示 若 55nm PSM（相移掩膜版）产品顺利完成客户认证并实现规模化批量供货，

将进一步完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，提升公司半导体掩膜业务的整体盈 利能力，优化产品结构，增强公司在国内半导体高端掩膜市场的核心竞争力。

上线认证属于客户验证的重要环节，认证周期、认证结果存在不确定性，尚 不能确定何时能够实现批量供货。产品上线后的销售情况受下游半导体行业景气 度、市场推广等因素影响，仍存在一定的不确定性，敬请广大投资者注意投资风 险。

特此公告。

深圳清溢光电股份有限公司 董事会 2026 年 9 月 29 日